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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱:

華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀器

產(chǎn)品型號(hào):HCGL-1000

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

所在地:北京市

更新日期:2024-10-25

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀器可以勻速、階梯(升降溫)、循環(huán)沖擊,真空、氣氛等多種的加熱方式,采用電子控制技術(shù),*可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi),溫控精度之高。 加熱速度之快,同時(shí)它可以提供了材料的多種的測(cè)試環(huán)境。

產(chǎn)品特性Product characteristics
品牌華測(cè)

產(chǎn)品介紹:


    目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的精度的測(cè)量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測(cè)儀器開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高的精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。 可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻 ,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染??稍诟哒婵?,高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

     華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀器提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講,都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。

  華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀器同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)溫度控制操作!


本試驗(yàn)爐具有:1000度、1200度、1400度各種型號(hào)。也可根據(jù)用戶需求訂制!

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設(shè)備優(yōu)勢(shì):

高速加熱與冷卻方式:高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度高的精度控制:過(guò)紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻:加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體 靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。


 應(yīng)用范圍:


1. 電子材料

◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入后

◆硅化物的形成


2. 陶瓷與無(wú)機(jī)材料

◆ 陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐。


3. 鋼鐵和金屬材料

◆ 薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬。

◆ 爐焊接模擬

◆ 高真空熱處理(1000°C以下)

◆ 大氣氣體熔化過(guò)程

◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐


4. 復(fù)合材料

◆ 耐熱性評(píng)價(jià)爐

◆ 無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐


5. 其它

◆ 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐。

◆ 分段分區(qū)控制爐

◆ 溫度梯度爐

◆ 爐氣分析

◆ 超導(dǎo)陶瓷退火爐




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